Intel: pierwszy układ 45 nm

Przeczytaj także: Procesory Intel Core 2 Extreme oraz Xeon

Wg przedstawicieli Intela zastosowanie procesu technologicznego 45 nm zapewnić ma przyszłym układom ponad pięciokrotną redukcję upływu prądu w porównaniu z obecnie wytwarzanymi układami. Dzięki temu możliwe ma być wydłużenie czasu pracy urządzeń mobilnych na baterii oraz tworzenie wydajniejszych i mniejszych platform.

„Nasza technologia 45 nm będzie fundamentem, na którym powstaną komputery charakteryzujące się większą wydajnością na wat, co przyniesie użytkownikom dodatkowe korzyści” – powiedział Bill Holt, wiceprezes i dyrektor generalny Intel Technology and Manufacturing Group.

Zaprezentowane 45-nanometrowe układy SRAM posiadają ponad miliard tranzystorów.

Wstępne prace związane z wdrożeniem procesu technologicznego 45 nm są obecnie prowadzone w zakładzie D1D w Oregonie. Intel poinformował również o planach uruchomienia dwóch fabryk produkujących na masową skalę układy w procesie technologicznym 45nm w Arizonie (Fab 32) oraz w Izraelu (Fab 28).