Nowy zakład określany jest w skrócie jako „Fab 32”, a jego budowa kosztowała 3 miliardy dolarów. Jest w nim wykorzystywany proces technologiczny 45nm polegający na wytwarzaniu 45-nanometrowych tranzystorów, których materiał izolacyjny metalowej bramki wykonany jest z materiału hi-k bazującego na hafnie. Tranzystory te później tworzą procesory Intela przeznaczone do komputerów stacjonarnych, laptopów i serwerów, a także układy do przenośnych urządzeń internetowych i konsumenckich oraz tanich pecetów.

Fab 32 to szósta fabryka Intela produkująca z wafli krzemowych 300 mm i druga stosująca proces 45nm. Intel w styczniu 2007 roku rozpoczął produkcję procesorów 45nm w swojej fabryce w Oregonie, znanej pod nazwą D1D. Obecnie przestawia się na produkcję wielkoskalową, otwierając zakłady Fab 32. Dwie podobne fabryki (45nm, 300mm) powinny zostać uruchomione w przyszłym roku w Kiryat Gat w Izraelu (Fab 28) i Rio Rancho w Nowym Meksyku (Fab 11x).

Pomieszczenia typu „clean room” w nowej fabryce mają powierzchnię 17 tys. metrów kwadratowych, a całkowita powierzchnia zakładu to 93 tys. metrów kwadratowych. Do obsługi fabryki zatrudnionych zostanie ponad 1000 pracowników, m.in. inżynierów procesu, automatyzacji i wydajności, a także starszych techników produkcyjnych.